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HDMS烘箱  HDMS真空烘箱  HDMS預處理烘箱

HDMS烘箱 HDMS真空烘箱 HDMS預處理烘箱

簡要描述:

HDMS烘箱 HDMS真空烘箱 HDMS預處理烘箱保護裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報&警提示,HMDS低液位報&警,超溫保護,漏電保護,過熱保護等

HDMS烘箱  HDMS真空烘箱  HDMS預處理烘箱技術參數

    容量:2-12寸晶圓、方片、碎片等

    材質:內箱采用316L級不銹鋼

    工藝溫度:80-150℃

    溫度分辨率:0.1℃

    溫度波動度:≤±0.5

    真空度:≤1torr

    操作界面:人機界面,一鍵作業

    腔內分層:1-4層

    工藝單元:5個工藝單元可保存

    圖像處理:圖像反轉

    真空泵: 進口無油泵

    保護裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報&警提示,HMDS低液位報&警,超溫保護,漏電保護,過熱保護等


HDMS烘箱  HDMS真空烘箱  HDMS預處理烘箱應用

1、單晶硅片

     目前較多的襯底材料,廣泛用于制造集成電路(IC)、微處理器、存儲器、MEMS器件、功率器件等

2、SOI襯底

     用于高性能、低功耗的集成電路,如高頻模擬和數字電路、RF器件和電源管理芯片。

3、SiGe襯底

    SiGe ,鍺硅,是一種硅和鍺任意摩爾比的合金,分子式為 Si 1? x Ge x,常用外延的方式制作。用于異質結雙極晶體管,混合信號電路,射頻等領域

4、化合物半導體襯底

    砷化鎵襯底(GaAs ):微波和毫米波通信器件等

    氮化鎵襯底(GaN ):用于射頻功率放大器,HEMT等

    碳化硅襯底(SiC ):用于電動汽車、電源轉換器等電力器件

磷化銦襯底(InP ):用于激光器、光探測器等

5、藍寶石襯底:用于LED制造、RFIC(射頻集成電路)等

6、鍺襯底:用于紅外光電器件等

7、LN(鈮酸鋰):用于聲表濾波器,mems等

8、LT(鉭酸鋰):用于聲表濾波器,mems等

9、玻璃基板:用于LCD、OLED、光學濾波器等

等等


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